紫外臭氧清洗机是如何工作的呢？它通过紫外灯发出适当强度的185nm和254nm波长高能紫外线破坏有物分子(污染物)。185nm紫外线可以将氧分子O2变成活跃的O3臭氧分子团。254nm紫外线同时激发表面的有机物分子，提高其敏感性，可以被臭氧分子团破坏。
一、目前紫外臭氧清洗机的主要应用表面UV光清洗和表面UV光改质
1、表面UV光清洗：利用紫外光以及由其产生的臭氧OZONE，对有机物质所起的光敏氧化分解作用，以达到去除粘附在物体表面上的有机化合物（碳氢化合物），获得超洁净的表面。
2、表面UV光改质：利用紫外光照射有机表面，在将有机物分解的同时，254nm波长的紫外光被物体表面吸收后，将表层的化学结构切断，光子作用产生原子氧会与被切断的表层分子结合，并将之变换成具有高度亲水性的官能基（如-OH，-CHO，-COOH），从而提高表面的浸润性。
二、主要应用：
1、石英/玻璃制品的表面清洗：液晶面板,等离子电视屏幕,彩色过滤片,光罩,棱镜,透镜,反射镜,平板电视等。
2、微电子产品的表面清洗：微型马达轴,磁头驱动架,光盘,光电器件,手机摄像头,微型喇叭/受话器震膜,半导体硅片,掩膜版。
3、精密集成电路的表面清洗：液晶显示器ITO,精密电路板,软性电路板接头,BGA基板的清洗,COG的清洗,COF(ILB)接合面的清洗,薄膜基板的清洗,金属基板的清洗，BGA基板与粘结垫的清洗。
4、在胶粘接或是印刷之前，对高分子聚合制品的表面改性：橡胶粘接，塑料汽车部件，透镜保护膜,塑料薄膜,树脂成型空气袋,IC包装,注射針接合部份的表面性,介入导管的表面改型等。
5、科研过程的表面清洗及处理：半导体，生物芯片，纳米材料，聚合物，光化学等。
