PLASMA等离子清洗机在清洗设备中应用纯氢是效率很高的，但考虑到了充放电的可靠性和安全系数，在等离子清洗设备中也可以应用氩氢化合物。此外，还可以采用反向氧气和氩氢气的清洗顺序，这种清洗机具有易氧化、易还原的特点。
氧气用来清理物件表层的有机化合物，发生氧化效应。另一种是清洗设备中的氩、氦、氮等非反应气体。氮处理可提高材料的硬度和耐磨性。氩和氦气体特性平稳，分子的充放电工作电压低非常容易产生亚稳态分子，一方面，运用其高能粒子的物理学功效来清理易被氧化或还原物件。
设备常见的气体有空气氧气、氩气、氢气、氩氢混合气体、cf4等。在应用该设备清洗设备清理物体前，先剖析清理物件和污染物，然后挑选合适的气体。依据设备基本原理，可选择的气体可分成氢、氧等特异气体，氢主要是用在金属表层化合物的清理。
下面我们具体去看看PLASMA等离子清洗机在以下四类气体中的应用：
1、氩气：物理学轰击表面是氩气清理的原理。氩是有效的物理学plasma清理气体，因为它的原子大小，能用非常大的能量打中产品表层。正氩正离子会被负极板吸引住，撞击力得以除去表层的一切污渍。随后这种气体污染物会随着泵排出。
2、氧气：与产品表层化学物质是有机化学反应。比如，氧能够合理地除去有机化学污染物，与污染物产生反应，形成二氧化碳、一氧化碳和水。一般来说，化学反应很容易除去有机污染物。
3、氢气：氢可用以除去金属表层氧化物。它常常与氩混合以提升去污能力。大家广泛关心氢的易燃性性和氢气储存使用问题，我们可以用氢产生器从水里造成氢。除去潜在性的伤害。
4、cf4/sf6：氟化气体普遍用在半导体材料和pwb（印刷线路板）等工业生产，这种气体用在pads工艺流程上，将氧化物转换为氯化物，允许无流动焊接。
